隨著半導體制造制程節點不斷推進至5nm乃至2nm，晶圓檢測（Wafer Inspection）設備在晶圓品質控制與良率提升中扮演著核心角色。檢測設備需在極高精度、超潔凈與穩定的條件下運行，任何微小的顆粒、熱漂移或機械振動都可能造成檢測誤差。因此，設備中結

   隨著半導體制造制程節點不斷推進至5nm乃至2nm，晶圓檢測（Wafer Inspection）設備在晶圓品質控制與良率提升中扮演著核心角色。檢測設備需在極高精度、超潔凈與穩定的條件下運行，任何微小的顆粒、熱漂移或機械振動都可能造成檢測誤差。因此，設備中結